Magnetron sputtering þunnt filmubúnað

Magnetron sputtering þunnt filmubúnaður notar þroskaðan kjarnatækni fyrirtækisins: High Energy Ionbeam Cleaning + Magnetron Sputtering Source (Magnetron Sputtering), búnaðurinn samþykkir fullan sjálfvirka stjórn, mát samþættan hagræðingu, búnað með miklum krafti, stöðugum afköstum, einföldum rekstri og auðveldu viðhaldi. Til að mæta mismunandi húðunarþörfum er hægt að hanna og stilla hólfið með margvíslegum markmiðum eins og planar hringlaga markmiðum, ræma markmiðum og sívalur markmiðum, og geta fengið fjöllagasamsettar kvikmyndir með mikla þéttleika og góðan samræmda frammistöðu, þar með talið ýmsar málm, rafeindaíhluta, ferromagnetic efni, sem og með því að einangra oxíð og keramikmyndir. Magnetron sputtering þunnt filmubúnað er hentugur til að þróa húðun og lotuhúðþjónustu.

Express Magnetron Sputtering þunnt filmubúnað hefur einstaka kjarnatækni, sérhönnuð segulsvið og vinnslu gasstíg, bætir á áhrifaríkan hátt marknýtingu og stöðugleika til langs tíma;

Tjáðu mát alhliða viðmót, beint samhæft við mismunandi form af bakskautamarkmiðum, sem gerir DC púls, ef, RF vinnustilling; Sterkur eindrægni;

Tjáðu sjálfhönnuð sjálfvirkt greindur stýrikerfi veitir yfirgripsmikla og þægilegan ferli formúluvinnslu og hringingargetu, búin með rauntíma eftirlitskerfi fyrir ferli, sem gerir kleift að fjarstýringu á netinu.