PVD Composite Thin Film Equipment er iðnaðar tómarúmsvettvangur sem hannaður er til að búa til fjöl-laga, málmblöndur og flokkaðar þunnar filmur. Hann er byggður á 304L/316L ryðfríu stáli arkitektúr og samþættir allt að fjóra sjálfstæða útfellingargjafa-þar á meðal DC/RF segulsviða, uppgufun rafeindageisla og hitauppstreymi-í eitt mengunarstýrt hólf-. Kerfið veitir nákvæma stjórn á örbyggingu kvikmyndarinnar, afgangsálagi og samsetningarhalla fyrir framleiðslulínur og háþróaða R&D.
Tæknilýsing
|
Parameter |
Forskrift |
Standard / ástand |
|
Fullkominn grunnþrýstingur |
<= 5.0 x 10^-6 Pa |
Cryo/Turbo stuðningur |
|
Vinnuþrýstingur |
0,1 til 5,0 Pa |
Ferli háð |
|
Undirlagsgeta |
φ300 mm oblátur eða 400 x 400 mm undirlag |
Sérsniðin bretti fáanleg |
|
Þykkt Einsleitni |
<= ±2% |
Mælt yfir allt undirlagssvæði |
|
Hitastig undirlags |
Herbergishiti í 800 gráður |
PID stjórnað með lokuðu-lykkja |
|
Útfellingarhafnir |
4 sjálfstæðar mát raufar |
Sputter / E-geisla stillanleg |
|
Kammerbygging |
304L / 316L ryðfríu stáli |
Raf-fágaður, Ra<= 0.2 μm |
|
Rafmagnsdreifing |
DC, RF (13,56 MHz), Pulsed DC, Bias |
PLC öryggis samtengdur |
Helstu eiginleikar
Modular Multi-Source Architecture:Framkvæmir rað- eða samútfellingu- frá allt að fjórum uppsprettum í einni lofttæmislotu.
Ofur-hreint tómarúmsheilleiki:Notar málm-þétta CF flansa, pneumatic hliðarventla og olíu-lausa grófa/túrbósameindadælu til að koma í veg fyrir kolvetnismengun.
Dynamic substrate biasing:Breytileg tíðni RF/DC hlutdrægni stjórnar innkominni jónaorku til að stjórna filmuþéttleika, hörku og streitu.
Sjálfvirk uppskriftastýring:Iðnaðar PLC og HMI geyma allt að 200 vinnslusnið, sjálfvirka dælu-niður, lokaravirkjun og loftræstingu.
Í-vöktunarhöfnum á staðnum:Forstilltir flansar hýsa QCM þykktarskynjara og optical emission spectrometers (OES).
Vacuum & Gas Subsystems
Dælustafla:Olíu-lausar rótar-/skrúfudælur, paraðar við segulmagnaðir túrbódælur eða kródælur, ná 5 x 10^-6 Pa frá andrúmslofti innan 45 mínútna.
Gasafhending:Massflæðisstýringar (MFC) stjórna Ar, O2 og N2 með ±1% nákvæmni í fullum mælikvarða; samþættir hreinsarar viðhalda 99,9999% gashreinleika.
Varmastjórnun:Hólf eru með tvöföldum-veggvatns-kælirásum til að koma á stöðugleika í byggingarmáli við háan-hita.
Efni og undirlagssamhæfi
Stuðningsefni
Málmar:Ti, Cr, Al, Cu, Au, Pt, NiCr, TiAl
Rafmagn / oxíð:SiO2, TiO2, Al2O3, Si3N4
Harð húðun:TiN, TiCN, CrN, DLC millilög
Samhæfni undirlags
Kísilskífur (φ100 mm til φ300 mm).
Brædd kísil, kvars og keramik sjónhvarfefni.
Verkfærastál og títan málmblöndur sem krefjast for-hreinsunar RF plasma ætingar.
Umsóknir
Hálfleiðari:Hindrunarlög, frælög og samtengd málmstafla.
Ljósfræði:Optískar truflunarsíur, and-endurskinshúð (AR) og há-endurskinsspeglar.
Slitvörn:Marg-laga hörð húðun fyrir skurðarverkfæri og flugrýmisíhluti.
Orkugeymsla:Þunnar filmur fyrir rafhlöður í föstu formi-og straumsafna.
Sérsniðin
Hólf rúmfræði:Breyttu innri víddum eða porthornum til að passa við eldri vélbúnað eða hanskahólfsbryggjur.
Heimildaaðlögun:Samþætta sérstakar e-geislabyssur, lengdir segulstraums eða hitabáta.
Hugbúnaðarsamþætting:Stilltu PLC rökfræði til að passa við SCADA samskiptareglur eða SECS/GEM staðla.
Gæðaeftirlit
Lekaleit:Helium massagreiningarprófun staðfest niður í 1 x 10^-10 Pa·m³/s.
Rafmagnsöryggi:Samfelld jörð, einangrunarviðnám og-stöðvunarstaðfesting samkvæmt CE/NFPA stöðlum.
Keyrsla fyrir-sending:Verksmiðjuprófunarútfelling sannreynir grunnþrýsting, uppsprettastöðugleika og þykkt einsleitni; gagnablöð eru send með einingunni.
Uppsetning og stuðningur
Skjöl:Fullkomið rafmagnsskema, P&ID skýringarmyndir, PLC rekstrarhandbækur og kvörðunarvottorð.
Verksmiðjusamþykki (FAT):Skoðun og löggilding viðskiptavinar fer fram á framleiðslugólfinu okkar áður en það er sett í rimlakassa.
Gangsetning (SAT):Vettvangsverkfræðingar hafa umsjón með vélrænni röðun, tengingum tækja og -samþykktarprófum á staðnum.
Algengar spurningar
Sp.: Hver er staðall leiðtími kerfisins?
A: 16 til 24 vikur, allt eftir rúmmáli hólfsins, magni upprunans og sérsniðnum sjálfvirknikröfum.
Sp.: Getur kerfið skipt á milli RF sputtering og E-geislauppgufun án þess að rjúfa lofttæmi?
A: Já. Marg-höfnararkitektúr gerir sjálfvirka raðbundna útfellingu yfir mismunandi uppsprettur undir stöðugu lofttæmi.
Sp.: Hvaða nettengingar eru nauðsynlegar á-síðunni?
A: 3-fasa straumafl, kælt vatn með lokuðum hringrás (18 gráður til 22 gráður), þjappað loft (0,6 MPa) og sérstakar vinnslugaslínur.
Sp.: Hvernig er hitastig undirlagsins stjórnað við vinnslu?
Svar: Undirlagshaldarar nota innbyggð hitaeining eða sjónhitamæla sem eru tengdir við lokaða-lykkju PID hitara og gasleiðnikælingu að aftan.
maq per Qat: pvd samsettur þunnfilmubúnaður, Kína pvd samsettur þunnfilmubúnaður framleiðendur, birgjar, verksmiðja
