PVD Hybrid Thin Film Deposition System

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Upplýsingar
PVD Hybrid Thin Film Deposition System samþættir varma uppgufun, rafeindageisla (e-geisla) uppgufun og RF/DC segulómasputtering innan eins lofttæmisarkitektúrs. Þessi vettvangur gerir rað-eða sam-útfellingu á málmum, málmblöndur og rafeindabúnaði kleift án þess að rjúfa lofttæmi, og kemur í veg fyrir oxun milliflata. Kerfið er hannað fyrir rannsóknar- og þróunarstofnanir og tilraunaframleiðslulínur og meðhöndlar undirlag allt að 6 tommu með sjálfvirkum snúningi á mörgum-ásum.
Flokkur
PVD samsettur þunnfilmubúnaður
 
Hringdu í okkur
Lýsing
Tæknilegar þættir

PVD Hybrid Thin Film Deposition System samþættir varma uppgufun, rafeindageisla (e-geisla) uppgufun og RF/DC segulómasputtering innan eins lofttæmisarkitektúrs. Þessi vettvangur gerir rað-eða sam-útfellingu á málmum, málmblöndur og rafeindabúnaði kleift án þess að rjúfa lofttæmi, og kemur í veg fyrir oxun milliflata. Kerfið er hannað fyrir rannsóknar- og þróunarstofnanir og tilraunaframleiðslulínur og meðhöndlar undirlag allt að 6 tommu með sjálfvirkum snúningi á mörgum-ásum.

 

Tæknilýsing

 

Parameter

Forskrift

Fullkominn grunnþrýstingur

< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out)

Dæla-niðurtími

< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa

Stærð undirlags

Allt að 6 tommu þvermál obláta / sérsniðnar handhafar

Samræmd filmuþykkt

<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation)

Útfellingarheimildir

Allt að 3 e-geislavasar, 2 varmabátar, 4 segulróna bakskaut

Hitastig undirlags

Umhverfishiti að 800°C (PID stjórnað)

Kammerefni

304L / 316L rafslípað ryðfrítt stál

Öryggisreglur

CE samhæft; íhlutir byggðir samkvæmt UL / NFPA stöðlum sé þess óskað

 

Helstu eiginleikar


Modular innstungur:Skiptanlegir uppsprettuflansar leyfa hraða endurstillingu milli sputtering bakskauta og varma/e-geislauppgufunarbúnaðar.


Einangrunararkitektúr:Pneumatic hlið lokar einangra vinnsluhólfið frá háa-tæmistaflanum til að lágmarka myndun agna.


Vöktun á-stað:Sérstakar tengi fyrir kvarskristal örjafnvægisskynjara (QCM) og ljósgeislunarrófsgreiningu (OES).


Samlæst öryggis PLC:Vélbúnaðarlæsingar koma í veg fyrir virkjun uppsprettu við háþrýsting, bilun í kælivatni eða öryggisbrot.

 

Vacuum System Configuration


Grófdæla:Dry scroll dæla (30 m^3/klst.) til að koma í veg fyrir bakstreymi kolvetnis.


Hátæmisdæla:Segulmagnaðir túrbósameindadæla (1200 L/s fyrir N2) studd af frystigildru.


Mælar:Samsettir Pirani og Cold Cathode skynjarar sem spanna andrúmsloftið upp í 10^-7 Pa.


Bakað:Hylkisjakkar með ytri einangrunarteppi sem ná allt að 150 gráðum C.

 

Efni og undirlagssamhæfi


Uppgufunarefni:
Málmar:
Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni


Rafmagn og oxíð: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO


Hálfleiðarar:Si, Ge


Tegundir undirlags:Einkristal kísilskífur, gler, kvars, pólýímíðfilmur og málmþynnur.

 

Umsóknir


Optolectronic tæki:Gegnsætt leiðandi rafskaut (ITO) og fjöl-laga endurskinsmerki fyrir OLED og sólarsellur.


Örrafrænar umbúðir:Undir-höggmálmmyndun (UBM) og frælög fyrir obláta-pökkun.


Háþróuð R&D:Skammtabúnaðarbyggingar, ofurleiðara þunnar filmur og segulmagnaðir (MTJ).

 

Sérstillingarvalkostir


Kammerkvarði:Útvíkkuð mál fyrir 12 tommu undirlag eða samþættingu hanskahólfsins.


Uppsetning uppruna:Sérsniðin deiglurúmmál, RF bias aflgjafar og -jónaaðstoð (IAD) einingar.


Sjálfvirkni:Snertiskjáuppskriftastjórnun eða fullkomið samræmi við SECS/GEM sjálfvirkni í verksmiðjunni.

 

Gæðaeftirlit


Lekaprófun:Helium massarófsmæliprófun í hvert hólf (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).


Málskoðanir:CMM sannprófun á uppruna-til-undirlagsfjarlægðanna og fráviks flansa.


Rafmagnsprófun:Hæ-Potprófun, samfelluathuganir á jarðtengingu og EHS úttektir á öllum háspennulínum-.

 

Uppsetning og stuðningur


Verksmiðjuviðurkenningarprófun (FAT):For-athugun á grunnþrýstingi, upprunavirkni og sjálfvirkum hjólreiðum á aðstöðu okkar.


Uppsetning reits:Vélrænni röðun á-stað, sannprófun á tengingu gagna og staðfestingarprófun vefsvæðis (SAT).


Skjöl:Heildarafhending felur í sér rafmagnsteikningar, P&ID skýringarmyndir, afrit af PLC og prófunarskírteini.

 

Algengar spurningar

 

Sp.: Getur kerfið skipt á milli hvarfgjarnrar sputtering og varma uppgufun í einni keyrslu?

A: Já. Pneumatic shutters einangra hverja uppsprettu, sem gerir kleift að framkvæma í röð án truflunar á lofttæmi.

Sp.: Hverjar eru kröfurnar um aðbúnað?

A: Krefst 3-fasa 380V/480V afl, kælivatn (18 gráður C til 22 gráður C við 0,3 MPa), þjappað loft (0,5 til 0,7 MPa) og útblástursleiðslu fyrir grófa dælu.

Sp.: Hvernig er komið í veg fyrir kross-mengun milli málmgjafa?

A: Einstakir uppspretta reykháfar, stefnuvirkir skjálftar og efnislegir lokar lágmarka víxl-efnis meðan á fjöl-keyrslu stendur.

 

maq per Qat: pvd blendingur þunnfilmu útfellingarkerfi, Kína pvd blending þunnfilmu útfellingarkerfi framleiðendur, birgjar, verksmiðju

Hringdu í okkur
Hafðu samband við okkuref þú hefur einhverjar spurningar

Þú getur annað hvort haft samband við okkur í gegnum síma, tölvupóst eða netform hér að neðan. Sérfræðingur okkar mun hafa samband við þig fljótlega.

Hafðu samband núna!